?近日，北方華創微電子參加了“中國第三代半導體產業技術創新戰略聯盟”(CASA)主辦的一系列在線論壇活動，吸引了兩千余名產業鏈上下游相關人士及行業專家通過網絡研討交流。

　　??北方華創第一刻蝕事業部張軼銘博士發表了題為《面向化合物半導體芯片的刻蝕裝備》的報告，重點介紹了北方華創在化合物半導體芯片產業的特色刻蝕裝備與工藝解決方案。

　　??北方華創GDE C200刻蝕機通過獨特的腔室設計與工藝開發，展現出優異的 SiC背孔/SiC trench刻蝕的量產性能，具有刻蝕速率快、MTBC長、Pillar缺陷少、Wafer表面溫度低、均勻性好、選擇比高、工藝窗口寬等一系列優點，完美適用于GaN-on-SiC RF、SiC功率等器件的量產。

　　??北方華創另一款產品GSE C200刻蝕機已服務于多個著名Foundry/IDM工廠，它擁有超強的工藝兼容性，適用于GaN/SiNx低損傷刻蝕 、GaAs背孔/Mesa刻蝕、InP Wave-guide/Grating刻蝕等刻蝕工藝，在GaN功率、GaAs RF/VCSEL、InP、FBAR/SAW/BAW濾波器等器件的生產方面，為客戶展示了十分穩定的量產能力。

　　??此外，北方華創在深硅刻蝕工藝上也獲得了海外市場的認可，型號為HSE系列的等離子刻蝕機具備高等離子密度，可達成高速、高深寬比、高均勻性刻蝕，目前該設備已全面服務于深硅刻蝕量產工藝。

　　??隨著萬物智聯、AIoT、大數據、云計算、汽車電子、VR/AR等領域的迅速發展，化合物半導體芯片相關產業將迎來大幅度增長。北方華創積極面向科技前沿，不斷研發新興材料的芯片制造裝備與工藝技術，以滿足不同行業與客戶的新需求。北方華創將繼續秉承以客戶為導向的持續創新，與客戶攜手并進，共同開拓產業發展的新藍圖!